最近在作課堂上石膏像席克的臨摹素描練習時在作畫流程中稍微做了些改變，因此今天特別想做個流程拆解的記錄與分析。同時也思考如何將這樣的流程套路使用在創作與其他練習上。
1.
線稿：
經過長時間下來的練習後對於線稿抓型的部分已經越來越熟練，可以較為準確地找出重要的點位並且已經不太會有明顯的誤差，和線稿有關的重點可以參考第一篇關於素描的文章。http://wsn80102.blogspot.tw/2016/10/blog-post.html
2.
二分：
第二個階段二分開始切出石膏的亮暗面，這部分開始需要運用正確的光影知識，
關於光影的部分可以參考http://wsn80102.blogspot.tw/2016/10/blog-post_21.html
3.
亮面與閉鎖陰影：
這個階段我先將最暗的閉鎖陰影(光線所照射不到的地方)和最亮的部分簡單的加上，漸漸將立體感呈現。
4.
背景與軟硬邊處理：
這個步驟開始有別於以往的作畫流程，這次除了簡單的處理軟硬邊之外，我先處理了背景的調子，而非開始刻劃細節。
5.
整體光影調子處理：
最近在練習時開始漸漸注重整體光影氛圍及調子，以往在切完二分後都會習慣直接開始加細節，直到最後才開始整理調子與整體光影。而兩者差別在於作畫的效率與正確性。在最後做整體氛圍調整時容易破壞整體細節，等於又必須多花時間在作細節的整理，而在最初切完二分時做整體氛圍除了不會有細節被破壞的問題之外同時也不會被細節的明暗所影響，而從圖中看到這個階段甚至幾乎沒有加上細節的部分，但遠看已經有足夠的整體感。從線稿的部分到這個階段大約只花了一小時左右的時間，比以往的速度提升的相當多。
6.
細節刻劃及調子整理：
結束上個步驟後接下來剩下的基本上就是細節的刻畫與整理，在作細節刻畫的同時，也必須時時刻刻注意整體的對比關係以及前後的空間感，這張圖還可以再繼續深入，但目前暫時先以這樣做收尾。
總結：
這張圖最大的收穫就是對於整體氛圍概括的作畫方式有更進一步的理解，同時在速度上也提升了很多，並且也不再那麼死命地作細節的刻畫，而關於整體與空間的掌握我認為還可以在掌握得更好，速度也可以再提升。